離(lí)子(zǐ)濺射儀(yí)的原理(lǐ)是什(shí)麼(mó)？它的(dí)特(tè)點有哪些？

　　離(lí)子(zǐ)濺(jiàn)射儀的工作原理(lǐ)：
 
　　直流(liú)冷(lěng)陰極(jí)二極管(guǎn)型(xíng)，靶材為常溫(wēn)，負(fù)高壓1-3kv，陽(yáng)極(jí)接(jiē)地。當(dāng)高壓打開時，陰極發(fā)射(shè)電子(zǐ)，電子能(néng)量(liáng)增加到1-3kev，轟擊(jī)低真(zhēn)空(3-10pA)中的(dí)氣(qì)體(tǐ)使其(qí)電(diàn)離。激發的電(diàn)子在電場中加(jiā)速，並(bìng)繼(jì)續轟擊(jī)氣體以產生級聯電離，形成(chéng)等離(lí)子體。離子(zǐ)以1-3kev的能量轟擊(jī)陰極(jí)靶(bǎ)。
 



 

　　當它(tā)們(mén)的能量(liáng)高於(yú)目標原子的結(jié)合能時(shí)，目(mù)標(biāo)原子或(huò)原子(zǐ)簇脫(tuō)離(lí)目(mù)標(biāo)並與(yǔ)等離子體(tǐ)中的殘餘氣體碰(pèng)撞。因此，它們(mén)有(yǒu)不同的方向。當它們落(là)在樣(yàng)品(pǐn)表麵上時，它們(mén)可以(yǐ)在(zài)粗糙的樣(yàng)品(pǐn)表麵上形成厚度均匀的金屬(shǔ)膜，並(bìng)且與樣品具有(yǒu)高的(dí)結合(hé)強(qiáng)度。如果腔室中的氣體(tǐ)繼(jì)續流動(dòng)並且(qiě)壓(yā)力保(bǎo)持恒定，則此時的離子(zǐ)電流保持(chí)恒(héng)定。高(gāo)壓的(dí)功率(shuài)決定(dìng)了最大離(lí)子電流，其(qí)通常被限(xiàn)製(zhì)以保護(hù)高壓(yā)電(diàn)源。
 
　　離子濺(jiàn)射(shè)儀(yí)的係統特(tè)點：
 
　　1，內(nèi)置過(guò)電流和(hé)真空(kōng)保(bǎo)護(hù)，當濺射電流過(guò)高或真(zhēn)空度差時自動中斷，非常可靠(kào)和(hé)安(ān)全。
 
　　2，微調閥(fá)的(dí)靈敏度(dù)相當(dāng)高，可以精確(què)控製(zhì)氣體流量。
 
　　3，目(mù)標組件(jiàn)采用(yòng)翻蓋(gài)式設計，操作簡單方(fāng)便(biàn)。
 
　　4，內置用(yòng)戶(hù)指(zhǐ)南和手(shǒu)冊(cè)，用戶操(cāo)作(zuò)非常(cháng)方便。
 
　　5，離(lí)子濺(jiàn)射(shè)儀采用微(wēi)處理器(qì)控製(zhì)。它具有非常高的自動化程(chéng)度，可(kě)以精確控製，並且(qiě)易於操(cāo)作。
 
　　6，5英(yīng)寸彩色(sè)觸摸屏可實(shí)時顯示(shì)真空度，濺(jiàn)射電流(liú)，設(shè)定濺射時間(jiān)，剩餘(yú)濺(jiàn)射(shè)時(shí)間，膜厚(hòu)估(gū)算(suàn)等。
 
　　7，可濺(jiàn)射金，銀，銅，鉑(bó)等常見靶材(cái)。
 
　　8，可以實(shí)時(shí)顯示設備的運(yùn)行時間(jiān)和(hé)目標的使用時間，使設備更容易理解(jiě)。