噴金(jīn)儀可配(pèi)備(bèi)SEM樣(yàng)品(pǐn)托，TEM網，普通(tōng)樣(yàng)品(pǐn)等多(duō)種專用樣品台，滿(mǎn)足各種高精(jīng)度的(dí)噴金或(huò)電生(shēng)長需(xū)求。除(chú)了濺射金屬電(diàn)外(wài)，還(huán)具有(yǒu)大(dà)的拓(tuò)展(zhǎn)空間，雖(suī)然作為台(tái)式設(shè)備，配備(bèi)了輸(shū)出功率(shuài)可達300W的(dí)濺(jiàn)射(shè)源，係(xì)統還可選擇樣(yàng)品台旋轉，樣(yàng)品傾斜，自(zì)動壓強控(kòng)製(zhì)等(děng)多種功(gōng)能。豐富(fù)的(dí)選件和配置(zhì)可以(yǐ)滿足(zú)學術研究(jiū)的多種樣(yàng)品生長需求，可(kě)升(shēng)成為(wéi)一(yī)台(tái)多功(gōng)能的磁控(kòng)濺射薄(báo)膜製(zhì)備(bèi)係統。該(gāi)設備作(zuò)為靈活的高精度金(jīn)屬濺(jiàn)射(shè)儀(yí)備受(shòu)各大(dà)實(shí)驗室的青睞(lài)。
噴(pēn)金(jīn)儀(yí)通(tōng)過(guò)離子濺(jiàn)射(shè)的方法(fǎ)來使(shǐ)實(shí)現在(zài)物(wù)體表(biǎo)麵(miàn)濺(jiàn)射一(yī)層金屬薄膜，根(gēn)據(jù)原(yuán)理的(dí)不(bù)錯呦直流(liú)離子濺射(shè)，磁控離子(zǐ)濺(jiàn)射和(hé)離(lí)子束濺射幾種，噴(pēn)金(jīn)儀是是(shì)掃(sǎo)描電(diàn)子(zǐ)顯(xiǎn)微鏡(jìng)實驗(yàn)室的(dí)樣品製備(bèi)工(gōng)具，公司專(zhuān)業研發設計生(shēng)產小型(xíng)噴金儀(yí)，服務於國內各(gè)大高(gāo)校，科研(yán)院所(suǒ)和(hé)企業工廠(chǎng)等用戶，在實(shí)踐中積(jī)累了(liǎo)豐富(fù)的經(jīng)驗(yàn)。
噴(pēn)金儀的主(zhǔ)要特性(xìng)：
1，采用電(diàn)腦芯片(piàn)自(zì)動(dòng)化控(kòng)製，操作簡(jiǎn)便(biàn)，通過參(cān)數設置可(kě)以進(jìn)行(háng)自動(dòng)連續(xù)操(cāo)作。
2，氣(qì)缸(gāng)控製Z軸升(shēng)降，可(kě)以調節(jié)噴筆與介質峋的高度距(jù)離(lí)，控(kòng)製(zhì)噴(pēn)點溶(róng)液的(dí)塔形(xíng)擴(kuò)散(sàn)。
3，可直(zhí)接設定(dìng)噴(pēn)金(jīn)起點(diǎn)的X，Y軸坐標，噴量，噴綫長度，綫(xiàn)條(tiáo)間距和S形(xíng)重(zhòng)復次(cì)數等。
4，裝備與(yǔ)同類(lèi)進口(kǒu)產品相(xiāng)同的噴金筆(bǐ)部(bù)件(jiàn)，可(kě)精(jīng)確控(kòng)製(zhì)噴點溶(róng)液與動力氣體(tǐ)的(dí)混合(hé)比。
5，傳統(tǒng)浸泡工藝可(kě)直(zhí)接升級(jí)為該噴(pēn)點(diǎn)工藝，迅速減(jiǎn)少了標記物溶液耗用(yòng)量。
點擊交(jiāo)流(liú)